光刻機的分(fēn)類描述
更新(xīn)時(shí)間(jiān)：2021-04-25 點擊次數：1949
光刻機的分(fēn)類描述
光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上(shàng)的精細圖形通過光線的曝光印制到矽片上(shàng)。光刻機的主要性能(néng)指标有：支持基片的尺寸範圍，分(fēn)辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生(shēng)産效率等。
光刻機一(yī)般根據操作(zuò)的簡便性分(fēn)為(wèi)三種，手動、半自動、全自動
1、手動：指的是對準的調節方式，是通過手調旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來(lái)完成對準，對準精度可想而知不高了(le)；
2、半自動：指的是對準可以通過電動軸根據CCD的進行定位調諧；
3、自動： 指的是 從基闆的上(shàng)載下(xià)載，曝光時(shí)長和循環都是通過程序控制，自動光刻機主要是滿足工廠對于處理(lǐ)量的需要。
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