紫外光刻機的應用在什(shén)麽地方呢(ne)
更新(xīn)時(shí)間(jiān)：2022-11-03 點擊次數：1107
該光刻機可廣泛用于MEMS和光電子(zǐ)，例如(rú)LED生(shēng)産。它經過**設計，方便處理(lǐ)各種非标準基片、例如(rú)混合、高頻元件和易碎的III-V族材料，包括砷化(huà)镓和磷化(huà)铟。而且該設備可通過選配升級套件，實現(xiàn)紫外納米壓印光刻。它具有以下(xià)亮點：高分(fēn)辨率掩模對準光刻，特征尺寸優于0.5微米、裝配SUSS的單視(shì)場(chǎng)顯微鏡或分(fēn)視(shì)場(chǎng)顯微鏡，實現(xiàn)快(kuài)速準确對準、針對厚膠工藝進行優化(huà)的高分(fēn)辨光學系統、可選配通用光學器(qì)件，在不同波長間(jiān)進行快(kuài)速切換等。
采用三柔性支點實現(xiàn)高精度自動調平；真空接觸自動曝光；樣片升降、調平、接觸、曝光、複位實現(xiàn)自動化(huà)控制；采用積木錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)高均勻照明；可連續設定分(fēn)離間(jiān)隙；采用雙目雙視(shì)場(chǎng)顯微鏡實現(xiàn)高對準精度。整機具有性能(néng)可靠、操作(zuò)方便、自動化(huà)程度高等特點。
光刻機通過一(yī)系列的光源能(néng)量、形狀控制手段，将光束透射過畫着線路(lù)圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，将線路(lù)圖成比例縮小後映射到矽片上(shàng)，不同光刻機的成像比例不同，有5:1，也(yě)有4:1。然後使用化(huà)學方法顯影，得到刻在矽片上(shàng)的電路(lù)圖（即芯片）。
一(yī)般的光刻工藝要經曆矽片表面清洗烘幹、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。經過一(yī)次光刻的芯片可以繼續塗膠、曝光。越複雜的芯片，線路(lù)圖的層數越多，也(yě)需要更精密的曝光控制過程。
紫外光刻機工作(zuò)原理(lǐ)
在加工芯片的過程中，光刻機通過一(yī)系列的光源能(néng)量、形狀控制手段，将光束透射過畫着線路(lù)圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，将線路(lù)圖成比例縮小後映射到矽片上(shàng)，然後使用化(huà)學方法顯影，得到刻在矽片上(shàng)的電路(lù)圖。
一(yī)般的光刻工藝要經曆矽片表面清洗烘幹、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。經過一(yī)次光刻的芯片可以繼續塗膠、曝光。越複雜的芯片，線路(lù)圖的層數越多，也(yě)需要更精密的曝光控制過程。
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