淺析紫外線光刻機的産品應用
更新(xīn)時(shí)間(jiān)：2023-05-10 點擊次數：598
紫外線光刻機是印制闆制造工藝中的重要設備。傳統光刻機的玻璃-邁拉曬架在生(shēng)産過程中需要人(rén)工趕氣,邁拉膜需要經常更換。由于冷卻系統過于臃腫,使得其生(shēng)産成本高、效率低(dī),已不能(néng)滿足PC B 生(shēng)産的需要。在實驗基礎上(shàng)設計了(le)雙玻璃曬架光刻機，改進了(le)其主要組成部分(fēn),包括曬架系統、光路(lù)系統、冷卻系統以及電氣和控制系統的整體(tǐ)設計。
該光刻機可廣泛用于MEMS和光電子(zǐ)，例如(rú)LED生(shēng)産。它經過**設計，方便處理(lǐ)各種非标準基片、例如(rú)混合、高頻元件和易碎的***族材料，包括砷化(huà)镓和磷化(huà)铟。而且該設備可通過選配升級套件，實現(xiàn)紫外納米壓印光刻。它具有以下(xià)亮點：高分(fēn)辨率掩模對準光刻，特征尺寸優于0.5微米、裝配SU**的單視(shì)場(chǎng)顯微鏡或分(fēn)視(shì)場(chǎng)顯微鏡，實現(xiàn)快(kuài)速準确對準、針對厚膠工藝進行優化(huà)的高分(fēn)辨光學系統、可選配通用光學器(qì)件，在不同波長間(jiān)進行快(kuài)速切換等。
采用三柔性支點實現(xiàn)高精度自動調平；真空接觸自動曝光；樣片升降、調平、接觸、曝光、複位實現(xiàn)自動化(huà)控制；采用積木錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)高均勻照明；可連續設定分(fēn)離間(jiān)隙；采用雙目雙視(shì)場(chǎng)顯微鏡實現(xiàn)高對準精度。整機具有性能(néng)可靠、操作(zuò)方便、自動化(huà)程度高等特點。
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