紫外光刻機的重要技術主要體(tǐ)現(xiàn)在這(zhè)兩個(gè)方面
更新(xīn)時(shí)間(jiān)：2022-01-10 點擊次數：1320
紫外光刻機廣泛應用于半導體(tǐ)、微電子(zǐ)、生(shēng)物器(qì)件和納米技術。并且，該系列光刻機已被多家企業、研發中心、科研院所、大專院校(xiào)采用作(zuò)為(wèi)其光刻系統的基礎；其過硬的技術、良好(hǎo)(hǎo)的服務(wù)赢得了(le)廣大用戶的青睐。作(zuò)為(wèi)光刻系統，其重要技術在于以下(xià)兩個(gè)方面：掩模晶圓對準和将掩模上(shàng)的圖案複制到晶圓上(shàng)，為(wèi)下(xià)一(yī)步或離子(zǐ)注入工藝做準備。
紫外光刻機的曝光方式采用壓力可調的接觸曝光，有效減少光刻膠對掩模版的污染和掩模版的磨損，從而提高掩模版的使用壽命。該機采用i-line紫外曝光光源，光學系統采用特殊的抗衍射和線陡增強技術，采用積木錯位繩眼透鏡實現(xiàn)高光均勻照明，配備雙目雙目顯微鏡和CCD圖像對準系統（可以同時(shí)使用）。具有高曝光能(néng)量、小聚焦角、厚膠曝光功能(néng)。曝光設置微電腦控制，菜單界面友好(hǎo)(hǎo)，操作(zuò)簡單。
該設備采用CCD圖像底部對準技術和單曝光頭正面曝光的整體(tǐ)設計技術，實現(xiàn)雙面對準。采用新(xīn)穎的高精度、多自由度掩模樣品精密對準工作(zuò)台結構設計，掩模樣品對準過程直觀，雕刻對準速度快(kuài)，精度高。掩模闆和樣品的放(fàng)置采用推拉式參考闆和真空吸附，操作(zuò)方便。該裝置可用于用紫外光照射正膠或負膠，通過顯影可對樣品進行精細圖案化(huà)。
紫外光刻機适用于所有标準化(huà)光刻應用，帶有頂部和底部對齊系統。底部對位系統允許對基闆的上(shàng)下(xià)表面進行圖形加工，适用于三五組易碎化(huà)合物、不規則基闆、透明基闆和碎片的微加工。具有鍵合對準升級功能(néng)和衍射減少光學系統。曝光方式可以是近距離接觸、軟接觸、硬接觸和真空接觸。
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