紫外光刻機是制造集成電路(lù)中重要的設備，特别是現(xiàn)在市(shì)面上(shàng)大部分(fēn)的芯片都是屬于電子(zǐ)芯片，當電子(zǐ)芯片的工藝小于一(yī)定的尺寸的時(shí)候，就(jiù)必須依靠光刻機在制作(zuò)芯片，也(yě)就(jiù)是說(shuō)如(rú)果沒有光刻機就(jiù)沒有辦法制造出頂級的芯片，比如(rú)市(shì)面上(shàng)7nm芯片、5nm芯片等都不可能(néng)造出。而芯片在生(shēng)活中是重要的，比如(rú)電腦、手機等電子(zǐ)産品都少不了(le)。
該光刻機可廣泛用于MEMS和光電子(zǐ)，例如(rú)LED生(shēng)産。它經過**設計，方便處理(lǐ)各種非标準基片、例如(rú)混合、高頻元件和易碎的III-V族材料，包括砷化(huà)镓和磷化(huà)铟。而且該設備可通過選配升級套件，實現(xiàn)紫外納米壓印光刻。它具有以下(xià)亮點：高分(fēn)辨率掩模對準光刻，特征尺寸優于0.5微米、裝配SUSS的單視(shì)場(chǎng)顯微鏡或分(fēn)視(shì)場(chǎng)顯微鏡，實現(xiàn)快(kuài)速準确對準、針對厚膠工藝進行優化(huà)的高分(fēn)辨光學系統、可選配通用光學器(qì)件，在不同波長間(jiān)進行快(kuài)速切換等。
随着電子(zǐ)業的飛速發展,對作(zuò)為(wèi)電子(zǐ)元器(qì)件基礎的印制闆的需求量及其加工精度的要求越來(lái)越高。紫外線光刻機是印制闆制造工藝中的重要設備。傳統光刻機的玻璃-邁拉曬架在生(shēng)産過程中需要人(rén)工趕氣,邁拉膜需要經常更換。由于冷卻系統過于臃腫,使得其生(shēng)産成本高、效率低(dī),已不能(néng)滿足PC B 生(shēng)産的需要。在實驗基礎上(shàng)設計了(le)雙玻璃曬架光刻機，改進了(le)其主要組成部分(fēn),包括曬架系統、光路(lù)系統、冷卻系統以及電氣和控制系統的整體(tǐ)設計。
在計算(suàn)機的控制下(xià)，利用聚焦電子(zǐ)束對有機聚合物（通常稱為(wèi)電子(zǐ)抗蝕劑或光刻膠）進行曝光，受電子(zǐ)束輻照後的光刻膠，其物理(lǐ)化(huà)學性質發生(shēng)變化(huà)，在一(yī)定的溶劑中形成良溶或非良溶區域，從而在抗蝕劑上(shàng)形成精細圖形。
紫外光刻機的原理(lǐ)是在已經切割好(hǎo)(hǎo)的晶圓（通常是多晶矽）上(shàng)覆蓋一(yī)層具有高度光敏感性光刻膠，再用光線（一(yī)般是紫外光、深紫外光、極紫外光）透過掩模照射在晶圓表面，被紫外線照射到的光刻膠會發生(shēng)反應。此後用特定溶劑洗去被照射/未被照射的光刻膠，就(jiù)實現(xiàn)了(le)電路(lù)圖從掩模到晶片的轉移。簡單來(lái)說(shuō)，就(jiù)用紫外線把多層電路(lù)圖雕刻在晶圓上(shàng)，而在這(zhè)過程中就(jiù)必然要用到光刻機。
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