紫外光刻機的性能(néng)指标主要集中在這(zhè)幾個(gè)方面
更新(xīn)時(shí)間(jiān)：2022-07-05 點擊次數：1230
紫外光刻機的主要性能(néng)指标包括：支撐基闆的尺寸範圍、分(fēn)辨率、對位精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生(shēng)産效率等。
1、分(fēn)辨率是描述光刻可以達到的最細線精度的一(yī)種方式。光刻機的分(fēn)辨率受到光源衍射的限制，因此受到光源、光刻系統、光刻膠和工藝的限制。
2、對準精度是多層曝光時(shí)層間(jiān)圖案的定位精度。
3、曝光方式分(fēn)為(wèi)接觸接近、投影和直寫。
4、曝光光源的波長分(fēn)為(wèi)紫外區、深紫外區和極紫外區。光源包括汞燈、準分(fēn)子(zǐ)激光器(qì)等。
紫外光刻機廣泛應用于半導體(tǐ)、微電子(zǐ)、生(shēng)物器(qì)件和納米技術。重要的技術在于以下(xià)兩個(gè)方面：掩模晶圓對準，以及将掩模上(shàng)的圖案複制到晶圓上(shàng)，為(wèi)下(xià)一(yī)步或離子(zǐ)注入工藝做準備。曝光方式采用壓力可調的接觸曝光，有效降低(dī)了(le)光刻膠對掩模版的污染和掩模版的磨損，提高了(le)掩模版的使用壽命。因此，曝光機/光刻系統以其高性價比令人(rén)印象深刻。
紫外光刻機高分(fēn)辨率光刻，光燒蝕/光解/光催化(huà)工藝，表面能(néng)改性，臭氧産生(shēng)，低(dī)損傷原子(zǐ)表面清潔，增強薄膜附着力，高功率平面真空紫外光為(wèi)光處理(lǐ)提供了(le)新(xīn)的可能(néng)性。大功率弧光燈的革命性使用具有出色的均勻性和通用性，高效緊湊的模塊化(huà)設計，這(zhè)些(xiē)都是在172nm光源上(shàng)實現(xiàn)的。此外，還創造性地推出了(le)真空紫外線處理(lǐ)系統。
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