看看URE-2000/35型紫外光刻機都有哪些(xiē)突破傳統的優勢？
更新(xīn)時(shí)間(jiān)：2021-06-17 點擊次數：935
随着電子(zǐ)工業的快(kuài)速發展，對作(zuò)為(wèi)電子(zǐ)元器(qì)件基礎的印制闆的需求和對加工精度的要求越來(lái)越高。
URE-2000/35型紫外光刻機是印制闆制造過程中的重要設備。傳統的光刻機在生(shēng)産過程中需要人(rén)工吹膜，需要經常更換薄膜。由于散熱系統過于臃腫，其生(shēng)産成本高、效率低(dī)，已不能(néng)滿足PCB生(shēng)産的需要。在實驗的基礎上(shàng)，設計了(le)一(yī)種雙層玻璃幹燥架光刻機，對其主要部件進行了(le)改進，包括幹燥架系統、光路(lù)系統、冷卻系統、電氣和控制系統的整體(tǐ)設計。
在計算(suàn)機的控制下(xià)，URE-2000/35型紫外光刻機利用聚焦電子(zǐ)束對有機聚合物（通常稱為(wèi)電子(zǐ)抗蝕劑或光刻膠）進行曝光。光刻膠改變其物理(lǐ)和化(huà)學性質，在一(yī)定的溶劑中形成良好(hǎo)(hǎo)或不良的溶解區域，從而在抗蝕劑上(shàng)形成精細的圖案。
紫外投影光刻是将特定形狀的光斑投射到器(qì)件表面塗覆的光刻膠上(shàng)，使光刻膠在照射區域發生(shēng)化(huà)學變化(huà)，曝光顯影後可形成微米級精密圖案；進一(yī)步的蝕刻或蒸發可以在樣品表面形成所需的結構。UV投影光刻作(zuò)為(wèi)材料、器(qì)件、微結構和微器(qì)件的常用制備技術，廣泛應用于維納結構制備、半導體(tǐ)器(qì)件電極制備、太赫茲/毫米波器(qì)件制備、光掩模制備、PCB制造等應用領域。常規UV投影光刻機需要先制作(zuò)掩膜版。耗材成本高、生(shēng)産周期長，難以滿足材料器(qì)件實驗室對靈活性和實驗進度的要求。近年來(lái)發展起來(lái)的無掩模光刻技術突破了(le)這(zhè)一(yī)技術局限，實現(xiàn)了(le)任意形狀編程、自動高精度大規模拼接無掩模光刻，随時(shí)将您的設計轉化(huà)為(wèi)實際成品，大大縮短了(le)開發測試周期，強力輔助維納微納器(qì)件的制備。
URE-2000/35型紫外光刻機基于多年微納結構制備經驗，自主研發高均勻度UV光源、高保真導光路(lù)、高精度、大行程、大承重納米平台等核心技術，結合高度穩定的機械結構、自動化(huà)和軟件設計，推出全自動高精度無掩模光刻機。
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