URE-2000/35型紫外光刻機使用須知
更新(xīn)時(shí)間(jiān)：2022-05-13 點擊次數：2084
光刻是使用曝光将設計的掩模圖案轉移到基闆的過程，URE-2000/35型紫外光刻機是專為(wèi)實驗室研發和小批量生(shēng)産而設計的高分(fēn)辨率光刻系統。光刻機提供良好(hǎo)(hǎo)的基闆适應性，可夾持的标準尺寸基闆最大直徑為(wèi)150mm。該設備提供多種曝光方式，包括真空、軟接觸、硬接觸等，可實現(xiàn)鍵合對準、納米壓印、微接觸密封等多種功能(néng)。
1、穩定的納米分(fēn)辨率；
2、大面積全場(chǎng)曝光，無需拼接；
3、自由度不受限制，不影響厚膠和表面翹曲；
4、雙工作(zuò)模式；
5、全息光刻模式：周期性納米結構；
6、掩模對準光刻模式：任何微米結構；
7、簡化(huà)的曝光工藝可實現(xiàn)一(yī)鍵式曝光；
8、靈活的定制解決方案。
URE-2000/35型紫外光刻機同類産品的優異輸出強度，出色的光束均勻性：3%的可用孔徑，更長的弧光燈使用壽命：高達30000次曝光，即時(shí)啓動，無需超淨室，内置淨化(huà)系統可以使系統在大氣環境中工作(zuò)，無需主動冷卻和外部冷卻，綠(lǜ)色技術：高光能(néng)轉換率（EVU僅為(wèi)0.02%），節能(néng)省電；傳統UV加工會存在以上(shàng)問題，光刻操作(zuò)幾分(fēn)鍾即可完成，維護簡單。
URE-2000/35型紫外光刻機廣泛應用于半導體(tǐ)光刻工藝、光波導、光栅、MEMS、二極管芯片、發光二極管（LED）芯片制造、顯示面闆LCD、光電器(qì)件、納米壓印和電子(zǐ)封裝。它的使用須知如(rú)下(xià)：
1、不要頻繁開關(guān)汞燈；
2、水銀燈剛開機需要預熱一(yī)段時(shí)間(jiān)；
3、檢查氮氣。CDA壓力必須為(wèi)0.6MPa，N2壓力必須為(wèi)0.4MPa。
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