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  • 2022

    6-23
    femto可調電流放(fàng)大器(qì)都有哪些(xiē)應用?
    femto可調電流放(fàng)大器(qì)是要求在帶寬值達200MHz從小電流轉換成可用的電壓應用程序的佳選擇。它非常适合用于直流和交流測量值達200MHz,時(shí)間(jiān)分(fēn)辨測量到該ns區域和作(zuò)為(wèi)前置放(fàng)大器(qì)可快(kuài)速光電探測器(qì)信号。提供了(le)包括可變增益值從102到108V...
  • 2022

    6-15
    Harrick等離子(zǐ)清洗機的作(zuò)用主要表現(xiàn)在這(zhè)些(xiē)方面
    Harrick等離子(zǐ)清洗機在各個(gè)行業的清洗工作(zuò)中起着非常重要的作(zuò)用。等離子(zǐ)清洗機确實很強大,安全可靠,可用于各種環境領域和場(chǎng)合,實現(xiàn)高效安全使用。它的作(zuò)用主要表現(xiàn)在這(zhè)些(xiē)方面。1、表面清潔Harrick等離子(zǐ)清洗機在運行過程中可以對産品表面進...
  • 2022

    6-10
    紫外光刻機的産品優點介紹
    紫外光刻機是制造集成電路(lù)中重要的設備,特别是現(xiàn)在市(shì)面上(shàng)大部分(fēn)的芯片都是屬于電子(zǐ)芯片,當電子(zǐ)芯片的工藝小于一(yī)定的尺寸的時(shí)候,就(jiù)必須依靠光刻機在制作(zuò)芯片,也(yě)就(jiù)是說(shuō)如(rú)果沒有光刻機就(jiù)沒有辦法制造出頂級的芯片,比如(rú)市(shì)面上(shàng)7nm芯片、5nm芯片等都不可...
  • 2022

    6-8
    紫外光刻機強力助攻微納器(qì)件制備
    紫外光刻機新(xīn)一(yī)代紫外光源:172nm,具有同類産品良好(hǎo)(hǎo)的輸出強度,3%的可用孔徑,弧光燈使用壽命更長。暴露高達30000次,瞬間(jiān)啓動,無需超淨室,内置淨化(huà)系統可使系統在大氣環境中工作(zuò),無需主動冷卻和外部冷卻,無有毒氣體(tǐ)和汞等物質。高光能(néng)轉換...
  • 2022

    5-13
    URE-2000/35型紫外光刻機使用須知
    光刻是使用曝光将設計的掩模圖案轉移到基闆的過程,URE-2000/35型紫外光刻機是專為(wèi)實驗室研發和小批量生(shēng)産而設計的高分(fēn)辨率光刻系統。光刻機提供良好(hǎo)(hǎo)的基闆适應性,可夾持的标準尺寸基闆最大直徑為(wèi)150mm。該設備提供多種曝光方式,包括真空、...
  • 2022

    5-13
    等離子(zǐ)清洗機的清洗原理(lǐ)介紹
    等離子(zǐ)清洗機(plasmacleaner)也(yě)叫等離子(zǐ)表面處理(lǐ)儀,是一(yī)種新(xīn)的技術,利用等離子(zǐ)體(tǐ)來(lái)達到常規清洗方法無法達到的效果。等離子(zǐ)體(tǐ)是物質的一(yī)種狀态,也(yě)叫做物質的第四态。對氣體(tǐ)施加足夠的能(néng)量使之離化(huà)便成為(wèi)等離子(zǐ)狀态。等離子(zǐ)體(tǐ)的“活性”組分(fēn)...
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