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DS-2000/14G型光刻機

簡要描述：DS-2000/14G型光刻機該機可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波長的極紫外光作(zuò)為(wèi)光源，用DMD數字微鏡陣列替代傳統掩模闆，采用積木錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)高均勻照明。

産品型号：
廠商(shāng)性質：生(shēng)産廠家
更新(xīn)時(shí)間(jiān)：2023-08-03
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芯片加工設備

激光切割機熱壓鍵合機等離子(zǐ)清洗機光刻機

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品牌	其他品牌	價格區間(jiān)	面議(yì)
儀器(qì)種類	微流控芯片系統	應用領域	醫(yī)療衛生(shēng),環保,電子(zǐ)

産品名稱：DS-2000/14G型光刻機

主要技術指标：

單次曝光面積：1.4mm×1mm;

大曝光基片：100mm ×100mm ;

對準精度：±0.8μm（半自動對準）;

大膠厚：300μm（SU8膠）;

自動逐場(chǎng)對焦；

分(fēn)辨力：1μm；

X、Y、Z、θ四自由度電動位移台 ;

X、Y平移重複定位精度：0.65μm（3σ）;

Z向運動精度：1μm。

DS-2000/14G型光刻機技術特點：

該機可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波長的極紫外光作(zuò)為(wèi)光源，用DMD數字微鏡陣列替代傳統掩模闆，采用積木錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)高均勻照明，并配備了(le)雙目雙視(shì)顯微鏡和CCD圖象對準系統（可同時(shí)使用），拼接獲得大面積圖形，曝光設定采用微機控制，菜單界面友好(hǎo)(hǎo)，操作(zuò)簡便。

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